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HiPace 400 P涡轮分子真空泵
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技术规格ISO
抽速
HiPace 400 P 涡轮分子真空泵：工业级高真空解决方案
德国普发 HiPace 400 P 涡轮分子真空泵凭借卓越技术性能，成为半导体制造、真空镀膜等精密工业的理想选择。其 355 L/s 氮气抽速与 < 1×10^-7 mbar 极限真空，可满足严苛超高真空需求，保障晶圆刻蚀等工艺稳定性。
核心复合轴承技术是亮点，前级真空端陶瓷球轴承与高真空端永磁径向轴承结合，无需电磁铁，4 年维护周期内稳定运行，且 30 分钟可现场完成维护，大幅降低停机成本。针对氢气、氦气等轻气体，抽速达 445 L/s 和 470 L/s，氮气压缩比超 1×10¹¹，确保残留气体干扰最小化，适配质谱分析等高精度场景。
IP54 防护等级与 SEMI - S2 认证，使其在粉尘多、化学腐蚀的工业环境可靠运行。紧凑机身支持多角度安装，适配复杂腔体布局。集成 TC 400 驱动单元，带 RS - 485 与 ProfiNet 接口，可远程监控关键参数，实现预测性维护。
运行声压≤50 dB (A)，“间断模式” 节能 90% 以上，水 / 气双冷却系统（100 L/h 流量）保障持续运行。12 个月质保护航，结合 4 年低维护设计，全生命周期成本优势显著。从半导体光刻到光学涂层，HiPace 400 P 以技术创新诠释 “高真空即生产力”。
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