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普发分子泵HiPace80 Neo
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普发分子泵HiPace80 Neo
普发真空（Pfeiffer Vacuum）生产的 HiPace 系列涡轮分子泵。
涡轮分子泵是获得高真空或超高真空的重要设备，通过高速旋转的转子，将气体分子驱向排气口，从而实现抽气功能。HiPace 系列涡轮分子泵在半导体制造、分析仪器、镀膜、科研等对真空度要求较高的领域有着广泛应用 ，它具有抽速快、极限真空度高、运行稳定等特点。
概述
用于在所有情况下的安装
理想适用于可靠系统集成
广泛的配件扩展使用范围
具有最高 67 l/s 对于 N2 抽吸能力的小型、高性能涡轮泵
集成驱动电子装置 TC80
普发真空 HiPace 80 Neo 分子泵技术资料
核心技术参数
抽速性能：氮气（N₂）抽速最高达 67 L/s，极限真空度优异，满足高真空应用需求。
运行参数：转子最高转速 90,000 转 / 分钟，支持任意方向安装，适配多样化集成场景。
结构尺寸：采用紧凑设计，体积小、重量轻，配备 DN 40/63 ISO-K、DN 63 CF-F 等可选法兰接口。
核心技术亮点
专利激光平衡技术：通过激光烧蚀精准修正转子质量分布，振动水平降低 20%，噪音极小，适配电子显微镜等振动敏感设备。
复合轴承系统：前级端油润滑陶瓷球轴承搭配高真空端永磁径向轴承，坚固耐用，稳定性强。
智能温控与防护：集成转子温度测量系统，外壳最高耐温 80℃，宽温工作范围，传感器实时监测保障安全运行。
低耗免维护设计：采用高性能抗老化润滑剂，配合连续过滤技术，实现五年免维护运行，降低使用成本。
适配接口与控制
接口配置：自带 Access Link 智能接口，可自动识别配件，搭配 TC 80 集成式电子驱动单元，支持多模式操作。
控制方式：兼容无操作单元运行、多功能接口 “X3” 控制及普发真空专用显示控制单元，启动快速，调试便捷。
典型应用场景
适用于质谱仪、电子显微镜、检漏仪、RGA 系统、加速器、等离子清洗、3D 打印及氦气稀释等场景，涵盖实验室科研、工业自动化等领域，可集成于固定式、移动式及便携式设备。
产品订购信息
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